GB/T24578-2015 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法

　　本标准适用于硅抛光片，外延片, 测定砷化镓，碳化硅，SOI 等材料镜面抛光晶片表面的金属沾污。

　　本标准规定使用全反射X光荧光光谱,稳态瞬态荧光光谱分析仪，PL检测.寿命检测。 定量测定硅抛光衬底表面层的元素面密度的方法。 本标准适用于硅单晶抛光片、外延片(以下称硅片), 尤其适用于硅片清洗后自 然氧化层, 或经化学方法生长的氧化层中沾污元素面密度的测定, 探测深度约 5nm，适用于测定以 下元素: 钾，银、锡、钙，钛，铁、钴、镍、铜、锌、钒，铬，锰，砷、钼、钯、钽、钨、铂、金、汞和铅。测定范围为10 9 atoms / cm 2~10 15 atoms / cm 2 。 本标准同样适用于其他半导体材料, 如砷化镓、碳化硅、 SOI 等镜面抛光晶片表面金属沾污的测定。

发布时间：2015-12-10         实施时间：2017-01-01

颁发部门：国家质量监督检验检疫总局

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